第085章 研发成功了(2/2)

能够在这么短的时间内，光刻机取得阶段性的进展，还是取决于苏川。  

首先是，对于苏川提出脉冲冷激光的想法，直接改变了他的思路。  

这段时间，他们一直在研究脉冲冷激光。  

在此之前，尝试的极紫外光最多也就保证10纳米到15纳米精度的光刻。  

脉冲冷激光则既然相反。  

在理论上甚至能够达到1纳米级别，甚至更为精细的光刻！  

他们在短时间内，光刻机的核心技术，曝光系统突飞猛进。  

反而是对准系统，开始拖后腿了。  

不过在今天发生的低频电磁脉冲意外后。  

实验室里不断闪烁的灯光，给了贺老灵感。  

没错，对准系统的解决方法很简单。  

只需要反复关闭启动脉冲冷激光，以闪烁的方式进行光刻，在光刻中因为持续运作所造成的误差，可以大幅度减少。  

贺老看着几名工作人员递交过来的对准系统运行日志，以及晶圆模具笑了起来。  

一切与他计算的一致！  

从另外的一个角度来说。  

大夏的高精度光刻机，已经可以提前宣布，研发成功了！