第185章 离子注入(2/2)
的一些科研人员肯定是知道的。
因为之前他看到了一些弹幕直接指明他使用的是离子掺杂，而且还询问了这种方式是否能稳定的构建N-漂移层，甚至是具体能注入到多少毫米这种。
而这种问题，明显不是普通观众能问出来的。
他制造的这种介于原始晶体管和集成芯片之间的晶体管虽然和现代化的芯片一样需要进行侵蚀镀刻出来一个N-漂移层和P阱。
虽然有些步骤一样，但其中的区别很大的。
因为之前他看到了一些弹幕直接指明他使用的是离子掺杂，而且还询问了这种方式是否能稳定的构建N-漂移层，甚至是具体能注入到多少毫米这种。
而这种问题，明显不是普通观众能问出来的。
他制造的这种介于原始晶体管和集成芯片之间的晶体管虽然和现代化的芯片一样需要进行侵蚀镀刻出来一个N-漂移层和P阱。
虽然有些步骤一样，但其中的区别很大的。