第一百零七章 T/R模块搞定,又是锦鲤??(2/3)

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突破。”  

“这东西如果继续优化发展下去,在很多领域都能有很大的作用。”  

“最近咱们西北机电所不是在搞单晶炉嘛,单晶炉是用来造硅材料、造芯片的,等原材料造出来的时候,要进行刻蚀就得用到光刻机、刻蚀机。”  

“这两种设备就需要使用高精度的空气轴承。”  

“以前我们想都不敢想,现在总算是有机会了。”  

“原来如此!”  

李想感慨地点了点头,这的确是一件值得庆祝的事情。  

但一旁的陈念心里却没什么波动。  

因为这事儿他早就知道了空气轴承技术的突破,事实上就是二十二号项目的衍生技术,还给他带来了源点的收益。  

不过,虽然不惊喜,但他也不会在这种时候去破坏气氛,只是静静地吃着饭,听乔麦和李想闲聊。  

“所以如果真的要造光刻机,我们现在能造出来吗?”  

李想继续问道。  

“呃这块我其实不太懂,但是光刻机里面有个结构确实在我们的研究范围里,就是对准系统。”  

“啥叫对准系统?”  

“简单来说,光刻的过程就是用光线雕刻的过程,那要保证准确,就必须保证你的‘刻刀’落在‘画板’正确的位置上,而保证这一点,就是对准系统要做的事情。”  

“这个过程很复杂,涉及到的结构也很多,我们现在用的还是手动对准系统,跟国外大公司的技术差距很大,估计短时间内也没有突破的可能性.”  

听到这里,陈念的眉头突然皱了起来。  

他抬起头,开口问道:  

“啥?我们现在的光刻机用的是手动对准系统?”  

在他的印象里,国产光刻机虽然精度差、效率低,但基本的功能还是齐全的。  

毕竟这玩意儿1974年就诞生了,后来经过1445所的不断优化升级,功能性还是完整的,怎么搞来搞去,还在用着手动对准吗?  

这倒是涉及到他的知识盲区了。  

听到他的问题,乔麦同样惊讶:  

“啊?你不知道吗?也对,你们应该不会太关注这块。”  

“但现在我们的对准系统确实很差,之前1445所实验了很多种方法,也没有解决自动对准的问题——同样的,精度也不够。”  

“1445所用的不是同轴离轴双对准的方法?”  

陈念大为惊讶,因为某种原因,这玩意儿在他的前一世铺天盖地地报道,连他这个门外汉都看过不少,搞的他还以为国内早就解决了对准系统的问题呢。  

“不是啊,离轴对准的技术难度很高,设计原理也比较复杂,我们没有搞出来的”  

“这玩意儿复杂??”  

“你说它制造难度大我还可以接受,但是原理复杂.不就是光衍射的原理吗?”  

话刚说完,陈念的脑子里突然灵光一闪,想起了关于以前他看过的报道的更多细节。  

对啊!  

最早的离轴对准技术,是ASML公司1999年才发明、2001年才算正式运用的技术,而自己所说的同轴离轴的技术,是07年出现的。  

现在国内确实还没有机会接触到最新的光刻机,自然也没有能力去复刻这种技术。  

所以,乔麦不知道、或者说国内没人知道,似乎是正常的?  

但自己还真知道啊!  

哪怕不借助系统也能知道!  

因为它的原理,真就没有乔麦所预计的那么复杂。  

想到这里,陈念没等乔麦回答便继续说道:  

“离轴对准技术的原理其实并不复杂,说到底,它也就是利用固定波长的光线来进行衍射照射,然后标记出参考光栅后,再利用摩尔东文来校准,当硅片跟光栅对齐之后,对准就基本完成了。”  

“在这个过程中最难的不是标记,而是维持系统的稳定,具体的操作方法.”  

听着陈念娓娓道来,乔麦的神情渐渐变得严肃。  

她眉头紧皱,默默在脑子里推演陈念所说的技术操作,但还没等她推演完,陈念却突然停了下来。  

“咋啦?怎么不继续了?”  

乔麦疑惑地问道。  

“额,后面不知道了,我也是偶然从一本杂志上看到的.”  

“哦,这样.”  

“你的方法好像真的没什么问题,而且原理也没那么复杂就跟你说的一样,这种技术难的不是原理,而是怎么实现。”  

“不过,有理论总比没有理论好啦,说不定过段时间,我们就能实现这个技术了。”  

乔麦的表情有些遗憾,但陈念却是暗自庆幸。  

嘿,还好收住了!  

他本来以为这就是一个很简单的技术,根本涉及不到保密要求。  

但没想到,话还没说一半,系统先跳出来了!  

TSIAthena对准系统解析源点需求:3.6  

解析源点需求:3.2  

解析源点需求:2.1  

伴随着解析源点需求不断降低的,是自己持有的源点数不断升高。  

而当解析源点需求降到1.5个点的时候,自己收到的源点数,则直接上升了0.7个点这时候陈念才想起来,这玩意儿对现在的世界来说,它就是知识增量啊!  

所以,暂时还说不得,至少不能说给不在保密序列里的乔麦和李想听等回去以后,找个时间写下来,丢给光电所那些专家研究去吧不过话说回来,加上0.7个源点,数字

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